某半导体材料集成ic加工进行处理厂在晶圆加工进行处理的过程中，用硅烷实现硅外延性植物的生长，尾气排放干洗塔所产生高氧浓度含硅生产废水进行处理手段。生产废水进行处理手段更具pH变化大（2-11）、硅份量高的优势特点，传统的进行处理手段易存在硅垢梗塞问題。 污水材质及来源地 工业废水主要是化学成分为： 溶解度性硅酸盐 ：SiO₂渗透压达1000-1500mg/L 浓盐酸/氢氧化物钠 ：干洗塔酸碱平衡干洗液杂质 粒子硅 ：奈米级SiO₂氢氧化铁 痕量砷 ：工业原料沉淀物进入 外理新工艺注意事项 科学创新用于"有级采和+膜筛选+蒸馏沉淀"施工工艺： 特一级中合 ：用CaO调接pH至4-5，生成二维码硅酸钙悠长岁月中，硅除掉率60%。 中级中合 ：加Na₂CO₃将pH加快至9，进步骤奠定其他硅，电容串联用镁剂除砷。 反渗透装置系统化 ：0.02μm瓷砖膜过滤清洁纳米级级硅颗粒肥料，通量稳固在80LMH。 MVR汽化器 ：浓缩液高盐废渣，晶粒出Na₂SO₄副的产品，水中水回用率超90%。 最后治疗效果 总硅从1500mg/L减少为5mg/L下面的 砷硫含量从0.8mg/L降到0.01mg/L 平台无水垢正常运行超2年 第一年收回浓盐酸钠单晶体约800吨